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        離子滲氮設(shè)備的極限真空度，根據(jù)“離子滲氮爐技術(shù)條件”規(guī)定，不應(yīng)低于5×10^-2托。壓升率不大于一微米汞柱/分，設(shè)備的漏氣率等于壓升率和真空容積的乘積，單位是托·升/分或托·升/秒。漏氣率的大小意味著滲氮氣氛中含有空氣量的多少，也就是一個含氧量的問題。在用純氮進行離子滲氮時，容器的漏氣率必須小于5×10^-7托·升/秒，要求容器有很高的密閉性。當(dāng)氣氛中還有能還原金屬氧化物及凈化表面的氫氣時，顯然對漏氣率的要求可以有所降低。在氣體滲氮時，添加5%的空氣有促進白層形成的作用。離子滲氮時，少量氧的加入并不妨礙滲氮，也使氮化物層增厚，含量增加，脆性也相應(yīng)有所增加。但氣氛中含氧量過高，濺射和氫還原速度低于氧化膜的形成速度時，零件表面的氧化膜將阻礙氮的滲入，結(jié)果滲氮速度減慢，表面出現(xiàn)軟區(qū)甚至完全滲不上氮。氣氛中含氧量較多時，也經(jīng)常發(fā)現(xiàn)在零件表面沉積著一層黑色的粉末，一擦即掉。X衍射結(jié)構(gòu)分析表明，它們主要是Fe₃O₄和Fe₄N的混合物。
        一般結(jié)構(gòu)結(jié)構(gòu)剛在5×10^-1托極限真空度的爐子中處理，滲氮層的硬度和深度與在正常設(shè)備中滲氮的沒有明確區(qū)別。但對于含有大量鉻的高合金鋼，由于極易生成穩(wěn)定的CrO薄膜，難以通過濺射清理完全去除。因此離子滲氮設(shè)備密閉性較差時，將出現(xiàn)硬度和層深的不均勻的現(xiàn)象。